LFU:online

Die Studierenden kennen die Grundlagen der PVD (Physical Vapour Deposition) und CVD (Chemical Vapour Deposition) Prozesstechnologien und verstehen deren Bedeutung als moderne industrielle Herstellungsverfahren zur Funktionalisierung von Oberflächen. Sie können die Herstellung und Anwendung dünner Schichten in Bereichen wie Maschinenbau, Werkzeuge, Optik, Medizin, Elektronik und Automobiltechnik erklären. Die Studierenden verstehen die Materialien und Materialeigenschaften von dünnen Schichten sowie den Einsatz technischer Plasmen zur Unterstützung der Herstellungsprozesse und zur gezielten Beeinflussung der Oberflächeneigenschaften.

PVD (Physical Vapour Deposition oder Vakuum- und Dünnschichttechnologie) Prozesstechnologien als moderne industrielle Herstellungsverfahren zur Funktionalisierung von Oberflächen; Herstellung von dünnen Schichten im Anwendungsbereich Maschinenbau, Werkzeuge, Optik, Medizin, Elektronik, Automobil; Materialien und Materialeigenschaften von dünnen Schichten; Technische Plasmen zur Unterstützung der Herstellungsprozesse und zur Beeinflussung der Oberflächeneigenschaften;

Beurteilung aufgrund von regelmäßigen schriftlichen und/oder mündlichen Beiträgen der Teilnehmerinnen und Teilnehmer.

Lehrveranstaltungsprüfung gemäß § 6 Satzungsteil, Studienrechtliche Bestimmungen

Wird im Rahmen der ersten Lehrveranstaltung besprochen.